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如何去除石墨表面的多晶硅

一种多晶硅的去除方法和清洗液、去除系统与流程

2023年6月29日本技术涉及太阳电池制备，具体而言，涉及一种多晶硅的去除方法和清洗液、去除系统。背景技术： 1、现在行业内poly石墨舟使用前需要先沉积一层氮化硅膜作为饱和过程，饱和完成的石墨舟正常生产topcon电池片时需要 2019年10月23日多晶硅生长时，需用石墨夹头夹持细长硅芯下端，石墨夹头作为电极对硅芯通入高压电流，使硅芯发热，炉腔内的气相三氯氢硅和氢气在高热硅芯表面发生化学反应，生产单质硅，并沉积在硅芯表面，随着生长持续，硅芯一种去除原生多晶硅棒端面石墨的装置及方法与流程

一种去除原生多晶硅棒端面石墨的方法

2020年7月18日为了解决上述问题，本发明采用的方案为一种去除原生多晶硅棒端面石墨夹头的方法，先将多晶硅棒两端带有石墨夹头的原料敲下来，再将原料破碎成小块，然后将原生多 2013年5月1日一种去除多晶硅中金属杂质的方法，包括如下步骤：（1）将原料硅在石墨坩埚中熔化；（2）将石墨板放置于熔融硅液的表面上，石墨板与外界直流电压的负极相接，石墨坩一种去除多晶硅中金属杂质的方法以及装置_百度文库

一种去除原生多晶硅棒端面石墨的装置的制作方法

2020年4月24日多晶硅生长时，需用石墨夹头夹持细长硅芯下端，石墨夹头作为电极对硅芯通入高压电流，使硅芯发热，炉腔内的气相三氯氢硅和氢气在高热硅芯表面发生化学反应，生产单 2023年2月14日本发明提供的清洗方法，通过水汽氧化使石墨舟表面沉积的多晶硅完全转化为氧化硅，后续利用氢氟酸单一溶液进行酸洗，就可完全去除石墨舟表面沉积的多晶硅，且整个清洗如何去除石墨表面的多晶硅

多晶硅清洗方法_百度文库

2011年11月23日本发明实施例公开了一种多晶硅清洗方法，该方法包括：将多晶硅置于SC-1清洗液中对其进行第一次清洗；采用纯水对所述多晶硅进行第一次漂洗；采用臭氧对所述多晶硅 2009年10月19日本发明涉及一种多晶硅碳头料的硅碳分离方法,包括硅碳分离,清洗和表面处理步骤,硅碳分离步骤为按分离液与多晶硅碳头料重量比为100:(50-200)比例将碳头料装入网袋后放多晶硅碳头料的硅碳分离方法 - 百度学术

如何清洗石墨材料？ - 知乎

例如，稀硝酸、盐酸或者稀硫酸可以用来去除石墨表面的金属杂质或氧化物。而碱洗，比如使用稀碱溶液，可以帮助去除某些有机污染物。酸碱洗都需要在清洗后彻底用大量水冲. 知乎，中文金属表面石墨的去除方法- 在选择去除方法时，需要考虑金属的种类、表面处理前后的要求以及具体的工艺条件。在执行任何去除方法之前，最好先进行小范围的试验，以确保所选方法不会对金属表面造成不良影响。金属表面石墨的去除方法在金属表面 ...金属表面石墨的去除方法_百度文库

如何清洗金属表面的石墨_百度知道

2020年12月17日如何清洗金属表面的石墨1使用白醋。醋能溶解金属表面的锈层。将生锈的金属泡在白醋里，放置几小时，然后将残留的锈渍擦除。如果金属物品太大，不能泡在白醋里，就在上面浇一层白醋，然后放置一段时间。你也可以用白2020年6月30日在预设温度下向所述高温炉中通入氯气，使所述lpcvd表面的多晶硅层与所述氯气进行反应；排出废气，得到去除所述多晶硅层的lpcvd石英舟。可选地，在所述的lpcvd石英舟的清理方法中，在将待清理lpcvd石英舟置入高温一种LPCVD石英舟的清理方法及清理设备与流程 - X

一种光学基底表面ito薄膜的高效去除方法_百度文库

因此，高效去除光学基底表面ITO薄膜的方法成为研究的热点之一。 2. 机械去除方法机械去除是一种较为传统的去除方法，常用的手段包括刮片、研磨和抛光等。刮片是最简单的方法，通过刮除表面的ITO薄膜，但容易造成表面划痕。2010年1月27日 1.一种去除磷掺杂多晶硅表面氧化物的方法，其特征在于，包括先将该多晶硅放入SC1槽进行清洗，而后将该多晶硅放入装有HF水溶液的DHF槽清洗，最后再将该多晶硅放入SC1 槽进行清洗，从而使清洗后的多晶硅呈表面亲水性 ...一种去除磷掺杂多晶硅表面氧化物的方法_百度文库

石墨坩埚对多晶硅电学性能的影响

2016年8月30日冶金法制备太阳能级多晶硅所用石墨坩埚含有不同类型的金属杂质，这些杂质通常会降低硅锭的电阻率和少子寿命等电学性能。本文研究了坩埚表面改性对冶金法多晶硅电阻率和少子寿命的影响。通过在不同冷凝速率条件下，对工业硅原料在改性前后的坩埚内提纯。2017年8月11日如何去除tc4钛合金表面的石墨曾首先，钛及其合金具有高强度，低密度，耐高温低温，耐腐蚀等优点。储量也很丰富，尤其是在我国的四川攀枝花等地区，这是我国的一大优势。提炼难度大。。等等原因造成了价格比较高。上如何去除tc4钛合金表面的石墨曾_百度知道

一种多晶硅的去除方法和清洗液、去除系统与流程 - X技术网

2023年6月29日本技术涉及太阳电池制备，具体而言，涉及一种多晶硅的去除方法和清洗液、去除系统。背景技术： 1、现在行业内poly石墨舟使用前需要先沉积一层氮化硅膜作为饱和过程，饱和完成的石墨舟正常生产topcon电池片时需要沉积poly硅膜及sio膜，随着石墨舟使用次数的增加导电性能变差，需要循环清洗poly ...多晶硅的表面金属杂质引入探讨-对多晶硅表面金属杂质含量的影响。关键词： I C P—MS ；多晶硅；表面金属杂质中图分类号： T B 9 9 文献标识码： A 国家标准学科分类代码： 4 3 0 ． 4 0 D O I ： 1 0 ． 1 5 9 8 8 ／ j ． c n k i 首页文档 ...多晶硅的表面金属杂质引入探讨 - 百度文库

多晶硅中氧化夹层的消除 - 百度文库

多晶硅中氧化夹层的消除-2.5进料炉温控制过低。还原炉启动后，硅棒电流过小，硅棒表面温度过低，硅芯表面未达到熔融状态，进料后形成温度夹层。2.6进料时电压波动大。电压在进料时出现明显的升高，说明硅棒表面温度出现了变化，下降过快，反应 ...酸洗可以去除表面污染物和金属杂质，使石墨表面更加纯净。碱洗可以去除油脂和有机杂质，提高表面的清洁度。氧化处理可以增加石墨表面的活性，提高润湿性和粘接性。 3.涂覆保护层：通过在石墨产品表面涂覆保护层来提高其耐腐蚀性和耐磨性。石墨产品的表面处理方法_百度文库

一种用于晶圆表面保护碳膜的去除方法与流程_百度文库

通过合理的去除方法和流程，可以有效地去除晶圆表面的碳膜，为后续工艺步骤的进行提供良好的条件。三、流程晶圆表面保护碳膜的去除流程通常包括以下步骤： 1. 准备工作需要对晶圆进行清洗，去除表面的污染物和杂质，以保证去除碳膜的效果。2017年2月17日 C，N，O等轻质元素的存在对太阳能级晶体硅材料的性能有着广泛影响，而硅材料作为太阳能电池的主要原材料，其纯度对电池的电学性能有着决定性作用。本文总结了晶体硅中C，N，O元素的存在形态、分布规律、形成机制及工艺控制等的研究进展，并对未来硅中轻质元素的研究进行了展望，使用各种 ...太阳能级硅中轻质元素 (C,N,O)研究进展

一种PECVD镀多晶硅用石墨舟的清洗方法与流程 - X技术网

2023年4月18日一种pecvd镀多晶硅用石墨舟的清洗方法技术领域.本发明涉及太阳能电池制造技术领域，尤其涉及一种pecvd镀多晶硅用石墨舟的清洗方法。背景技术.topcon单晶硅太阳能电池制备过程中需要在电池背面制作一层掺杂多晶硅作为钝化层，目前制备多晶硅钝化层的主流方式有lpcvd、pecvd和pvd法。其中，pecvd法 ...2011年5月18日太阳能级多晶硅中B、P杂质的危害及去除-太阳能级多晶硅中B、P 杂质的危害及去除首页文档视频音频文集文档公司财报 ... 塔，使其在经济性、工艺、机械强度、抗腐蚀性等方面均有一定优越性，在不锈钢精馏塔内表面喷涂氟塑料46(F-46)是 ...太阳能级多晶硅中B、P杂质的危害及去除 - 百度文库

多晶硅中杂质含量_分布及其检测方法的探讨_百度文库

元素含量的常见手段主要可概括为两大类。 1. 1 检测多晶硅表面元素分布的方法多晶硅表面杂质元素的含量及分布直接关系到其性能和特点，常用的分析方法是 X 荧光光谱法（ XRF） [1-2]，此法可以定性、定量分析包括 Fe 和 Al 等多种杂质元素。2023年8月7日使用一定次数后需要定期清洗去除表面的膜层。石墨舟传统湿法清洗的五大弊端目前清洗石墨舟采用的都是传统湿法清洗工艺,但现有湿法清洗技术存在五大弊端: ①清洗时间过长湿法清洗一个石墨舟直到烘干需要16-20个小时左右，清洗效率低 ...等离子清洗机在光伏行业上石墨舟的运用 - 知乎

一种多晶硅中碳含量的检测方法与流程

2022年3月26日 1.本发明属于多晶硅技术领域，具体涉及一种多晶硅中碳含量的检测方法。背景技术： 2.多晶硅料是光伏行业及半导体行业生产直拉单晶或区熔单晶的原料，其会含有碳杂质，而碳是有害的杂质，严重影响硅的电学性能。除了原料硅粉中含有碳外，其生产过程中的管道、硅料沉积采用的石墨材料等 ...2018年8月7日但是，由于碳元素的激活时间和速率，都远远地晚于甚至不及在石墨表面上被大量结晶硅所包裹的时间和速率，同时石墨表面也开始逐渐被硅所掩盖，导致在石墨表面上从开始时能够产生少量大气甲烷，到后来却又慢慢无法产生大量甲烷的。 1.2 CH4与碳的沉积多晶硅中碳杂质的来源及控制方法研究 - qikan

一种去除石墨基材表面碳化硅镀膜的方法与流程 - X技术网

2022年4月2日 1.本发明涉及表面清理技术领域，具体为一种去除石墨基材表面碳化硅镀膜的方法。背景技术： 2.碳化硅涂层能够通过如含浸法或化学气相沉积法(cvd)等沉积方法形成。通过含浸法形成的碳化硅层的耐久性通常较低；化学气相沉积法(cvd)从长远的角度看来还有可能会导致如装置的腐蚀以及空气的污染 ...2023年10月25日但在实际应用中，需要注意清洗参数的选择和控制，以保证清洗效果，不会对石墨材料造成不必要的损坏。低温等离子清洗机在石墨领域具有以下优点: 1.高效率清洗：等离子体清洗机利用等离子体产生的高能离子束，对石墨表面进行清洗，能有效地去除石墨表面的如何借助等离子清洗机提高石墨表面的清洁度和亲水性?_材料 ...

如何引入和消除石墨烯中的缺陷？ - 百度文库

如何引入和消除石墨烯中的缺陷？石墨烯缺陷与其性质关系密切，为了让石墨烯具有某些特点以实现特定用途，需要对石墨烯缺陷进行调控。在调控方法中，有些是为了增加石墨烯活性或者裁剪石墨烯构建纳米设备，因此需要制造石墨烯缺陷；有些则是为了提高石墨烯晶体有序化，因此需要减 2022年7月3日 Yang等在两步煅烧法分离铜箔和废石墨之后，采用无机酸浸出和碳酸盐沉淀结合的方法去除废石墨中含有的金属杂质，工艺流程如图2 (a)。第一步煅烧是高温挥发石墨中残存电解质的同时，将黏结剂有效分解，即可实现石墨活性材料与集流体铜箔直接剥离。锂离子电池负极石墨回收处理及资源循环_搜狐汽车_搜狐网

怎么去除机械加工刀纹 - 百度知道

2024年4月11日怎么去除机械加工刀纹CNC加工件去除刀纹的方法主要包括以下几种：1. 磨削法：采用砂轮、研磨头等磨削工具对CNC加工件表面进行磨削处理，有效去除刀痕和毛刺，实现光滑表面的效果。2. 化学法：通过酸性或碱性溶液与CN2017年8月10日 3 .2 石墨在多晶硅生产中的应用目前市场上太阳能级多晶硅产品85%以上是依靠改良西门子工艺生产制得,在改良西门子工艺生产过程中,高纯石墨以其优异的特性在多道工序中被广泛使用;例如多晶硅气相沉积的还原炉内要用到大量的石墨制品耗材 ...石墨材料在光伏行业中的应用

沾上石墨粉该怎么洗掉？

2022年7月25日如今，随着世界工业的跨越式发展，石墨粉在工业上的应用越来越广泛，已成为国内企业重要的工业矿物原料之一。而如果我们的衣服不小心沾上了石墨粉，就特别难清洗，那么石墨粉怎么清洗呢？下面小编就为大家介绍一下石墨粉的特性：石墨的比重为1.9`2摘要：在目前的光伏产业中,占有主导地位的晶体硅太阳能电池的制造需大量的高纯多晶硅材料.西门子法是生产多晶硅的主流工艺,由于工艺中使用石墨夹头连接初始硅芯作为硅还原反应沉积基底,产品中存在沾附了石墨的多晶硅碳头料.最大限度地利用多晶硅碳头料,对降低光伏发电成本有重要西门子法多晶硅碳头料利用技术研究 - 百度学术

如何去除钨钼材料表面的石墨层_百度知道

2011年4月5日如何去除钨钼材料表面的石墨层一般情况下旋锻或挤压的时候用到石墨，但是在加工过程中因为高温石墨一般被氧化成二氧化碳跑走了，如果还存在难以去除的部分就用碱洗，因为碱洗意味着材料部分被腐蚀，这种情况很少见，2021年3月1日然而，在转移过程中去除通常用作支撑介质的 PMMA 很麻烦，因为 PMMA 分子会干扰石墨烯的基本性质，而常规的丙酮处理无法从石墨烯表面完全去除 PMMA。热退火处理最早用于清洁PMMA残留物，而等离子体和离子束处理一般具有更高的清洁效率。与其他消除石墨烯上PMMA残留的方法——超洁净石墨烯 - X-MOL ...

一种去除石墨表面氮化镓基化合物的方法 - X技术网

[0038] 本发明提出的去除石墨盘表面氮化镓基化合物的方法与现有技术相比，具有以下优点： [0039] 本发明在无分压保持较低真空度（0.Itorr以下）条件下，将石墨温度从 1050°C-IKKTC升至1350°C-1360°C，进一步裂解氮化镓基化合物并将上一步反应和裂解的 ...

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